19938108760
產品簡介
日本SIGMAKOKI西格瑪光機超級反射鏡，采用了離子束濺射（IBS）鍍膜方式，獲得了細密而無缺陷的高質量光學膜。反射鏡基板采用特殊的高精密拋光技術制造，其表面粗糙度小于Ra0.1nm的低散亂基板。
日本SIGMAKOKI西格瑪光機超級反射鏡
采用了離子束濺射（IBS）鍍膜方式，獲得了細密而無缺陷的高質量光學膜。
反射鏡基板采用特殊的高精密拋光技術制造，其表面粗糙度小于Ra0.1nm的低散亂基板。
發揮多年積累的光學薄膜設計經驗，實現了高達99.999%的高反射率。
基板和光學膜的散亂損失非常小，用其構建法布里－珀羅腔的話，可得到非常窄的光譜帶寬和高銳度。
有使用波長為532nm和1064nm的兩個系列。
日本SIGMAKOKI西格瑪光機超級反射鏡
| 材料 | 合成石英 |  |
|---|---|---|
| 鍍膜 | 正面 電介質高反射多層膜 反面 電介質防反射多層膜 | |
| 入射角 | 0° | |
| 基板面型精度 | λ/10 | |
| 平行度 | ＜5″ | |
| 表面質量 | 10-5 | |
| 有效直徑 | 外徑的80% | |
| 反面反射率 | ＜0.15％ | |
| 形狀 | 平面基板 |
掃碼加微信，了解最新動態
Copyright © 2025 成都一子沫科技有限公司版權所有
技術支持：化工儀器網 管理登錄 備案號：蜀ICP備2024103393號-2 sitemap.xml
當前位置：
上一個：
返回列表
日本MUSASHI武藏