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日本SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)電介質(zhì)膜反射鏡,?備有基波(1030nm) ,2次諧波(515nm),3次諧波(343nm),4次諧波(257nm)等多種波長(zhǎng)使用的反射鏡。?反射率高。經(jīng)過(guò)多次反射后的光量衰減小。?使用吸收小的電介質(zhì)膜,適合承受大功率激光的連續(xù)照射。
日本SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)電介質(zhì)膜反射鏡
Yb強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡 / TFMHPQ-50.8C08-1030特別適用于高功率的光纖激光系統(tǒng)使用的反射鏡。日本SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)電介質(zhì)膜反射鏡
?備有基波(1030nm) ,2次諧波(515nm),3次諧波(343nm),4次諧波(257nm)等多種波長(zhǎng)使用的反射鏡。
?反射率高。經(jīng)過(guò)多次反射后的光量衰減小。
?使用吸收小的電介質(zhì)膜,適合承受大功率激光的連續(xù)照射。













| 目錄編號(hào) | W3224 | ||||||||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| RoHS | 是 | ||||||||||||||||||||||||||
| CE | 否 | ||||||||||||||||||||||||||
| 資料下載 | PDF | ||||||||||||||||||||||||||
| 信息 | ?承接定制產(chǎn)品目錄上沒(méi)有的尺寸或波長(zhǎng)特性的反射鏡。歡迎利用客戶問(wèn)詢單咨詢。 WEB參照/カタログコードW3800 ?可申請(qǐng)定制在低散亂基板上鍍強(qiáng)激光用多層電介質(zhì)膜。 WEB參照/カタログコードW3140 ?備有保證鍍膜后面精度的反射鏡(HTFM)。 WEB參照/カタログコードW3002 ?各波長(zhǎng)的「波長(zhǎng)特性數(shù)據(jù)」(僅供參考、反射率的單位為R[%])請(qǐng)參考【這里】。 | ||||||||||||||||||||||||||
| 注意 | ?請(qǐng)務(wù)必確認(rèn)入射激光光束的能量密度是否低于激光損傷閾值。 ?透鏡或凹面反射鏡匯聚過(guò)的光束,更要注意確認(rèn)其能量密度是否超過(guò)元件固有的激光損傷閾值,否則容易發(fā)生激光損傷。 ?存在一定的透過(guò)光(透過(guò)率一般小于1%)。但,光束功率很大時(shí),請(qǐng)務(wù)必在反射鏡后面,也采取必要的安全防護(hù)措施。 ?入射光束的偏振狀態(tài)影響反射率。與S偏光相比,P偏光入射時(shí)的反射率略低,適用波長(zhǎng)范圍也略窄。 ?樣本上的技術(shù)指標(biāo)中的反射率是P偏光和S偏光的反射率的算術(shù)平均值。 ?用于設(shè)計(jì)波長(zhǎng)之外的波長(zhǎng)區(qū)域時(shí),反射率會(huì)降低。 | ||||||||||||||||||||||||||
| 技術(shù)指標(biāo) |
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